在電子半導(dǎo)體、醫(yī)藥以及航空航天等領(lǐng)域，隔膜閥的應(yīng)用非常廣泛。而這種鑄造的產(chǎn)品，拋光難度非常大，因?yàn)楦裟らy內(nèi)腔對(duì)表面粗糙度的要求極高，雖然是鑄造的，卻要求鏡面。通常隔膜閥的拋光成本是其他成本的數(shù)倍，所以今天我們來測(cè)試一下磨粒流用于隔膜閥內(nèi)腔拋光的效果。

首先，我們看拋光前的隔膜閥，內(nèi)腔已經(jīng)經(jīng)過人工粗打磨，將明顯的凹凸點(diǎn)，粗紋路去除了。如果不經(jīng)過人工粗打磨，直接用磨粒流拋光是不行的，磨粒流的去除量，最多也只有2個(gè)絲左右。人工粗打磨并不難，小磨頭加砂紙，很快就能打磨出一個(gè)比較不錯(cuò)的表面，這時(shí)候的粗糙度已經(jīng)達(dá)到了RA0.8-0.9，這樣磨粒流拋光起來就輕松很多了。

磨料直接從底部的大孔進(jìn)入，然后從兩側(cè)的孔擠出，如此循環(huán)10分鐘，即可將內(nèi)腔的粗糙度從Ra0.8-0.9降低到Ra0.2-0.3，表面粗糙度已經(jīng)接近鏡面了。加工過程中，1次可以放置2個(gè)產(chǎn)品，單個(gè)產(chǎn)品的拋光時(shí)間為5分鐘。當(dāng)然，0.2-0.3的粗糙度還是不夠的，不過不要緊，經(jīng)過磨粒流拋光后的內(nèi)腔，已經(jīng)可以做電解拋光了。

我們看上圖，經(jīng)過人工粗打磨以及磨粒流拋光后的隔膜閥內(nèi)腔，其亮度和粗糙度都已經(jīng)接近鏡面了，這時(shí)候只需要再做一次電解拋光，就可以把粗糙度從Ra0.2-0.3，降低到Ra0.1左右，達(dá)到鏡面效果。在這一整個(gè)過程中，磨粒流替代的其實(shí)是人工中拋及精拋工序，單個(gè)產(chǎn)品可節(jié)省約1個(gè)小時(shí)的時(shí)間，于此同時(shí)，每天的產(chǎn)量可以增加好幾倍。這對(duì)與這種供不應(yīng)求的產(chǎn)品來說，實(shí)在是太重要了。

最后我們?cè)購?qiáng)調(diào)一下，鑄造的表面，如果想用磨粒流獲得一個(gè)較好的表面粗糙度，一定要先經(jīng)過粗打磨，將較明顯的凹凸顆粒、紋路等去除！